Intel zal het eerste bedrijf zijn dat dit jaar een extreme ultraviolet (EUV) lithografie-apparaat met een 0,55 numerieke apertuur (high-NA) van ASML in ontvangst neemt, met het merendeel van de machines gepland voor 2024. Het aantal machines suggereert dat Intel van plan is om de Twinscan EXE-machines op grotere schaal te gebruiken. Met deze EUV-machines kan Intel uiteindelijk ook 2nm-chips gaan produceren, maar dat zal waarschijnlijk niet eerder gebeuren dan 2025. ASML zal volgend jaar slec...
Continue reading...
Continue reading...