ASML zal voor het einde van dit jaar zijn eerste high-NA EUV-systeem leveren. In een interview met Reuters geeft ceo Peter Wellink aan dat het bedrijf vertraging heeft opgelopen vanwege kwaliteitsproblemen bij zijn leveranciers, maar zich desondanks aan de vooropgestelde planning zal kunnen houden. Deze high numerical aperture EUV-apparaten maken gebruik van verbeterde optica, die kleinere structuren bij dezelfde golflengte mogelijk maakt. Dit betekent dat er weer enkele jaren geavanceerdere...
Continue reading...
Continue reading...