TSMC heeft op de IEDM-conferentie aangegeven dat zijn 5nm-proces maar liefst een 84% grotere dichtheid heeft dan een vergelijkbaar product op 7 nm. Het bedrijf begint binnenkort met massaproductie op deze nieuwe node, die flink gebruikmaakt van euv. De vergelijking wordt gemaakt tussen 7 nm zónder euv, gezien het 5nm-procedé daarvoor de opvolger is. Op 5 nm wordt voor meer dan tien lagen euv ingezet, waardoor een indrukwekkend verschil ontstaat. WikiChip laat het zien in het aantal transistor...
Continue reading...
Continue reading...