• Vragen? Wacht niet langer op de antwoorden! Login of Registreer en plaats jouw vraag! Wij zullen je vragen z.s.m. beantwoorden.

HWI Samsungs 3nm GAAFET biedt tot 80 procent hogere processordichtheid dan haar 7nm-proces

HighFlow

Moderator
Forumleiding
Eerder deze week maakten we melding van de verkoop van GAAFET-patenten van Intel aan Sony. Vandaag kunnen we melding maken van het feit dat Samsung laat weten de eerste fabrikant te zijn die deze gate-all-around-field-effect transistor gaat toepassen in haar 3nm fabricage procedé. Op het op halfgeleiders grichte IEEE International Solid-State Circuits Conference (ISSCC) heeft het bedrijf wat details gedeeld over het 3nm GAE MBCFET (multi-bridge channel FET) fabricageproces. Er zijn twee soor...

Continue reading...
 
Terug
Bovenaan