• Vragen? Wacht niet langer op de antwoorden! Login of Registreer en plaats jouw vraag! Wij zullen je vragen z.s.m. beantwoorden.

HWI Intel wil als eerste ASML-klant voor High-NA EUV leider worden in 3nm-productie

HighFlow

Moderator
Forumleiding
Intel heeft gisteren nieuwe namen aangekondigd voor zijn toekomstige productieprocessen. De naamgeving moet duidelijker zijn, en de kleinere nodes zullen worden gedefinieerd onder de Ångström-eenheid. Ook is gebleken dat Intel de eerste afnemer is van ASML's High-NA-machines voor extreme ultraviolet. Daarmee wil ASML 3nm-nodes mogelijk maken. High-na is synoniem voor 0,55na-litho patterning, waarmee 3nm-nodes met behulp van euv gefabriceerd kunnen worden. Voor kleinere nodes wordt het gebruik...

Continue reading...
 
Terug
Bovenaan