ASML en Intel hebben hun plannen aangekondigd om halfgeleiderlithografie-technologie naar het volgende niveau te gaan tillen. Het blauwe kamp koopt een Twinscan EXE:5200-systeem dat nog in ontwikkeling is en in 2025 operationeel moet zijn, de eerste node waarvoor de machine gebruikt wordt zal 18A zijn, Intel's benaming voor 1,8 nanometer. Deze komt na 20A dat door Intel in juli 2021 aangekondigd is. Volgens ceo Pat Gelsinger ligt de ontwikkeling voor deze kleine procedés op schema. Het appar...
Continue reading...
Continue reading...