Het Belgische onderzoeksinstituut Imec gaat samen met ASML werken aan het opzetten van een high numerical aperture (high-na)-euv-lithografielijn voor de ontwikkeling van sub-2nm-chips. Hiervoor gaat ASML zijn meest geavanceerde lithografie- en metrologieapparatuur verschaffen aan Imec, die daar vervolgens de 'proeflijn' mee gaat opzetten. Volgens ASML is de pilotlijn van deze lithografietechnologie cruciaal voor de ontwikkeling van energie-efficiënte halfgeleiders die de vraag naar steeds fo...
Continue reading...
Continue reading...