Canon heeft met de FPA-1200NZ2C zijn nieuwste apparatuur uitgebracht die gericht is op de productie van geavanceerde chips. In tegenstelling tot de bekende fotolithografiesystemen van ASML maakt de oplossing van de Japanse fabrikant gebruik van nano-imprintlithografie. Momenteel moet het mogelijk zijn om chips te vervaardigen op een 5nm-achtig procedé, met verbeteringen in het vooruitzicht. De FPA-1200NZ2C in zijn volle glorie. Waar fotolithografie een lichtbron gebruikt om circuits te vormen...
Continue reading...
Continue reading...